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美逮捕中国工程师 指控其涉嫌窃取军事机密
发布时间:2014-12-11 点击次数:

  美国地区检察院对外通报称,中国籍工程师余隆试图携带与F-35战斗机钛材料有关的数据回国已被逮捕。美方表示,余隆涉嫌以偷窃、侵占和诈骗方式窃取美国军事机密。如果罪名成立他可能要面对10年刑期,并缴纳数万美元的罚款。
 据了解,余隆今年36岁,持有美国绿卡,被捕前曾受雇于美国普拉特&惠特尼公司。今年8月,余隆因携带超过1万美元未申报的现钞以及一份工作简历返回中国在机场被海关截停。11月余隆再度回国,海关官员在他的行李箱中发现了来自于康涅狄格州之外某公司的敏感材料以及相关文件,材料设计内容与他曾参加F-35战斗机的研制有关。余隆所属公司回应,早前在参与研制期间就曾多次警告余隆要对手里的数据保密,他们将积极配合调查。

  标准集团(香港)有限公司点评:高科技技术是目前各国争夺的重要资源,无论是哪个国际都对该类信息较为敏感,但是直接搜查中国旅客的行李及私人物品,则是美国严重的鄙视行为,这类时间的一个在发生值得人们思考。